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    活性炭吸附工藝  活性炭是經(jīng)過活化處理后的碳,其具備比表面積大,孔隙多的特點,使其具有較強吸附能力。顆粒碳比表面積一般可達700—1200m2/g,其孔徑大小范圍在1.5nm一5um之間。其吸附方式主要通過2種途徑:一是活性炭與氣體分子間的范德華力,當氣體分子經(jīng)過活性炭表面,陜西催化燃燒設備,范德華力起主導作用時,催化燃燒設備報價,氣體分子先被吸附至活性炭外表面,小于活性炭孔徑的分子經(jīng)內(nèi)部擴散轉移至內(nèi)表面,從而達到吸附的效果,此為物理吸附;二是吸附質(zhì)與吸附劑表面原子間的化學鍵合成,此為化學吸附。活性炭吸附一般適用于大風量、低濃度、低濕度、低含塵的有機廢氣。


    低溫等離子體

    低溫等離子體是繼固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)之后的物質(zhì)第四態(tài),當外加電壓達到氣體的著火電壓時,氣體分子被擊穿,產(chǎn)生包括電子、各種離子、原子和自由基在內(nèi)的混合體。放電過程中雖然電子溫度很高,但重粒子溫度很低,催化燃燒設備廠家,整個體系呈現(xiàn)低溫狀態(tài),所以稱為低溫等離子體。低溫等離子體降解污染物是利用這些高能電子、 自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用,使污染物分子在極短的時間內(nèi)發(fā)生分解,并發(fā)生后續(xù)的各種反應以達到降解污染物的目的。

    低溫等離子體空氣凈化設備能夠顯著治理的污染有: VOC、惡臭氣體、異味氣體、油煙、粉塵,也可用于殺菌。低溫等離子體技術是一種全新的凈化過程,不需要任何 添加劑、不產(chǎn)生廢水、廢渣,不會導致二次污染。




    光催化和生物凈化設備

    光催化是常溫深度反應技術。 光催化氧化可在室溫下將水、空氣和土壤中有機污染物完全氧化成無毒無害的產(chǎn)物,催化燃燒設備品牌,而傳統(tǒng)的高溫焚燒技術則需要在極高的溫度下才可將污染物摧毀,即使用常規(guī)的催化、氧化方法亦需要幾百度的高溫。

    從理論上講,只要 半導體吸收的光能不小于其帶隙能,就足以激發(fā)產(chǎn)生電子和空穴,該半導體就有可能用作光催化劑。常見的單一化合物光催化劑多為金屬氧化物或硫化物,如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。這些催化劑各自對特定反應有突出優(yōu)點,具體研究中可根據(jù)需要選用,如CdS半導體帶隙能較小,跟太陽光譜中的近紫外光段有較好的匹配性能,可以很好地利用自然光能,但它容易發(fā)生光腐蝕,使用壽命有限。相對而言,Ti02的綜合性能較好,是廣泛使用和研究的單一化合物 光催化劑。


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